崗位職責1、主導12英寸立式中高溫氧化爐（如THEORIS X302系列1）的氣路設計、熱場仿真及反應室優(yōu)化，解決顆粒污染控制（如流化床立式爐的懸浮顆粒管理技術6）和晶圓傳輸效率問題；2、開發(fā)立式爐工藝（如氧化、退火、CVD沉積35），完成設備調試與工藝驗證；3、 協(xié)同跨部門完成半導體設備（如碳化硅單晶生長爐7）的工程化落地。崗位要求：1、具備12吋立式爐設備開發(fā)經驗；2、對立式爐氣路、反應室，熱場，顆粒污染控制、高效晶圓傳輸?shù)汝P鍵技術系統(tǒng)部件和立式爐工藝有開發(fā)經驗者優(yōu)先；3、解決12吋立式爐工藝應用、調試等問題。